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通過浸泡、高壓清洗，配合ACE/IPA沖洗、兆聲清洗，可以有效去除晶圓表面光刻膠或者對金屬膜進行剝離，并對晶圓表面進行清洗。

設備主要由浸泡腔、去膠(剝離)腔體、清洗干燥腔體、升降掃描擺臂模塊、上下料臺模塊、對中模塊、高壓液體供應系統(tǒng)、常壓供排液系統(tǒng)、空氣凈化及靜電消除系統(tǒng)、安全消防系統(tǒng)、中央控制系統(tǒng)等組成。工藝腔體可配置高壓有機去膠、常壓有機清洗、兆聲清洗、IPA清洗、氮氣吹掃、離心甩干等功能。

? 可控高壓去膠(剝離)技術

? 采用干進干出加工模式

? 化學液循環(huán)再利用

? 貴金屬收集回收